TSMC, Nvidia, Synopsys e ASML hanno convenuto di cooperare allo sviluppo di tecnologie che consentiranno di accelerare lo sviluppo di i chip con processo produttivo a 2 nanometri e ancora oltre.
A riferirlo è il sito PatentlyApple spiegando che la scorsa settimana TSMC ha annunciato una accelerazione nello sviluppo di sue tecnologie a 2nm e altre ancora più avanzate, procedimenti indicati come all’avanguardia nel campo della litografia ultravioletta, usata per l’”incisione” dei wafer di silicio nella produzione dei chip.
La statunitense Synopsis, – che è nota nell’ambiente per vari software di Electronic design automation (EDA) e strumenti per progettare e produrre sistemi elettronici, supporta il progetto, così come ASML, la multinazionale olandese specializzata nello sviluppo e nella produzione di costose macchine per fotolitografia utilizzate per produrre chip (macchinari che costano dai 230 ai quasi 400 milioni di dollari).
Nvidia è interessata al nodo dei 2nm e in un comunicato riferisce di una libreria software denominata “cuLitho” per il mondo della produzione di chip e che permette di sfruttare le GPU per accelerare i calcoli necessari per creare le fotomaschere, compiti che è possibile portare a termine 40 volte più velocemente e usando oltretutto meno energia rispetto a quanto richiesto ora.
“Con la litografia che si avvicina ai limiti della fisica, l’introduzione di cuLitho da parte di NVIDIA e la partnership con TSMC, ASML e Synopsys consente alle Fab di aumentare la produttività, ridurre la loro impronta di carbonio e gettare le basi per i 2 nanometri e oltre”, ha dichiarato Jensen Huang, CEO di Nvidia.
Wei Zhe-jia, presidente di TSMC, ha parlato della cooperazione come uno sviluppo che porterà a un importante contributo nella miniaturizzazione dei semiconduttori.
TSMC è seriamente intenzionata ad accelerare lo sviluppo e ha già riferito che le fab in Giappone si occuperanno espressamente della produzione di chip a 2nm. La multinazionale taiwanese ha previsto un investimento di 60 miliardi di dollari per la creazione di 4 nuove fab, con alcuni impianti che dovrebbero essere operativi giò dal 2025.
