Toshiba e Western Digital hanno celebrato l’apertura del nuovo impianto di produzione di semiconduttori Fab 2 sito a Yokkaichi, nella prefettura di Mie, in Giappone. L’uso sempre più esteso delle memorie flash per smartphone, SSD e altre applicazioni sta alimentando una continua crescita del mercato globale di questo tipo di memorie. Secondo i due produttori, il nuovo impianto consentirà di rispondere alle richieste di mercato, convertendo le strutture che si occupano di memorie 2D NAND in memorie 3D Flash ad alta densità e in grado di offrire migliori performance.
La costruzione del Fab 2 è iniziata a settembre del 2014; a ottobre dello scorso anno, nel corso del completamento della struttura, Toshiba e SanDisk (azienda acquistata da Western Digital a marzo di quest’anno) hanno lavorato insieme per implementare tecnologie d’avanguardia per la produzione in serie di memorie flash 3D, con una prima fase di produzione avviata già a marzo di quest’anno. Le due parti intendono investire ancora, incrementando le capacità produttive nel tempo in funzione delle condizioni di mercato.
